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분광표면분석
표면이란 고체와 진공, 고체와 기체 또는 고체와 액체 사이의 경계면으로 고체 본체의 평균 조성과는 성분이 다른 원자나 분자의 가장 위 층이나 바깥 층으로부터 계속 변화하는 균일하지 않은 전이 층을 포함한 고체의 일부를 뜻한다.
이런 고체 표면은 산소에 의한 자연산화 습기 또는 이산화탄소 등과 같은 공기의 구성 성분과의 흡착에 의해 표면 조성이 바뀌므로 불균일 촉매반응, 반도체 박막기술, 부식, 접착 연구, 금속 표면의 활성, 부서지는 성질, 생체 막의 행동과 기능 등에 대한 분야에서 활발히 연구되고 있다.

표면 분석법 종류: 현미경법, 분광법
  • 현미경법: 표면의 영상이나 표면의 형태 즉, 물리적 특성을 측정하는데 비해
  • 분광법: 고체 표면을 구성하는 화학종을 확인하고 정량하는 화학적 정보까지 제공함에 있어 그 특성이 있다.
본 분광 표면분석은 XPS(X-ray photoelectron sepctroscopy), XRD(X-ray diffractometer), Raman sepctrometer 와 같은 장비를 통해 물질의 표면을 분석하고 나가서 물질 자체의 구조를 규명하는 실험실이다.
XPS
광전자분광계(XPS)
X-ray photoelectron sepctroscopy
XRD
X선 회절기(XRD)
X-ray diffractometer
Raman sepctrometer
라만분광기
Raman sepctrometer